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超高真空管道传输设备

生产型磁控溅射设备是针对生产企业实验室和产线研发的一系列高性能、高效率的磁控溅射装备。MSI-200型磁控溅射设备采用多个真空腔室互联的设计，通过Cluster内置的三维机械手实现晶圆的传输，可搭配多个溅射室或处理腔室，适用于生产产线或实验线。

生产型磁控溅射设备是针对生产企业实验室和产线研发的一系列高性能、高效率的磁控溅射装备。MSI-200型磁控溅射设备采用多个真空腔室互联的设计，通过Cluster内置的三维机械手实现晶圆的传输，可搭配多个溅射室或处理腔室，适用于生产产线或实验线。

性能参数

晶圆尺寸

8吋向下兼容
极限真空优于5×10-10mbar
对接口每节管道可连接一套系统，对接口CF250及以下。
传输装置磁力传输，可同时传输多片
进样室可选配独立进样室
校准装置光电传感器
真空系统机械泵+分子泵，可选离子泵等

控制系统                    

PC+PLC
安全互锁，碰撞保护,真空互锁等