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量产级多功能薄膜沉积设备

该设备基于晶圆真空传输平台VTM，可以灵活配备传输腔室和工艺腔室，工艺腔室可选配电子束蒸发腔室、分子束外延腔室、溅射腔室、热蒸发腔室和预清洗腔室等。可实现多种材料的精确沉积。

该设备基于晶圆真空传输平台VTM，可以灵活配备传输腔室和工艺腔室，工艺腔室可选配电子束蒸发腔室、分子束外延腔室、溅射腔室、热蒸发腔室和预清洗腔室等。可实现多种材料的精确沉积。

性能参数

晶圆尺寸8~12吋
极限真空优于5×10-9mbar（工艺室PM）
优于5×10-7mbar（传输室TM）
优于5×10-6mbar（进样室Load lock）
工艺室可选配电子束蒸发腔室、分子束外延腔室、热蒸发腔室、预清洗室、溅射室、退火室、低温室、蒸发室、氧化室等
传输室可选四边形、六边形或八边形腔室，可实现多个传输室互联，配置双臂或单臂机械臂，配置校准和测量装置
进样室8或12吋晶圆，可选EFEM等前端模块

详细配置可咨询业务