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电子束蒸发设备—E-Beam-HV

电子束蒸发设备可以在高真空和超高真空环境下实现精确的多层薄膜制备。线性电子束枪可以实现多种材料的蒸发。设备可选配考夫曼离子源实现晶圆的预清洗，可用于超导量子等领域，适用于高校及企业研发和小规模生产场合。

电子束蒸发设备可以在高真空和超高真空环境下实现精确的多层薄膜制备。线性电子束枪可以实现多种材料的蒸发。设备可选配考夫曼离子源实现晶圆的预清洗，可用于超导量子等领域，适用于高校及企业研发和小规模生产场合。

性能参数

晶圆尺寸4inch~8inch
极限真空优于1×10-7mbar
温控RT-800℃
电子束枪多坩埚旋转电子束枪，可选配坩埚数量和容量（标配，10KW，8×20cc）
晶圆清洗可选配考夫曼离子源实现晶圆清洗
清洗均匀性例：4inch晶圆优于±3%
控制系统PC+PLC，全自动操作与安全互锁
样品台180度倾斜，360度旋转，可选升降与偏压
膜厚测量膜厚仪，可伸缩
占地面积2m L*2m W*2m H
可选低温泵、进样室、晶圆自动传输、工艺菜单等

六大特色 懂你所需

企业/高校性能之选

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测试案列

        随着超导量子计算的发展，高校实验室和企业对于超导量子电路的核心器件——约瑟夫森结有着极高的制备要求。该设备可专门用于制备Al基、Nb基等各类约瑟夫森结，以下是制备的约瑟夫森结的光学照像。

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约瑟夫森结的光学图像

温度测试

        下图是加热台温度测试图，加热台可以实现最高800摄氏度的晶圆加热，并且电子束蒸发过程中温升较低，满足不同材料的沉积需求。

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