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脉冲激光沉积设备—PLD-400

脉冲激光沉积设备是高校和科研院所常用的氧化物和多组分薄膜沉积设备，该设备具有简单可靠、运行稳定的特点。PLD-400型脉冲激光沉积设备，标配6个1inch靶材，靶材可以原位更换，配合RHEED和准分子激光器可以实现高质量薄膜的沉积。

脉冲激光沉积设备是高校和科研院所常用的氧化物和多组分薄膜沉积设备，该设备具有简单可靠、运行稳定的特点。PLD-400型脉冲激光沉积设备，标配6个1inch靶材，靶材可以原位更换，配合RHEED和准分子激光器可以实现高质量薄膜的沉积。

性能参数

晶圆尺寸

2inch

极限真空

5×10-9mbar

温控

RT-1200℃

靶台数量

6个1inch 靶材或3个2inch靶材

靶台公自转设计（可单独旋转）

靶材更换

原位更换靶材

激光源准分子激光器
常用材料BFO、SRO、VO2等
占地面积3m L*2m W*2m H
可选自动传输、反应沉积、膜厚仪、工艺菜单、高压RHEED等

客户案例

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氧化钒羽辉（上）和金属Co羽辉（下）。

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在Al2O3（0001）衬底上制备不同厚度的氧化钒薄膜的XRD结果图。

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在STO（002）衬底上制备的[(LSMO)m/(BTO)n]N/STO超晶格的XRD结果图。