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真空退火炉—VF-200

真空退火炉是改善薄膜质量的有效手段，在特殊气体氛围下加热还可以改善薄膜的组分。VF-200是致真设备公司推出的一款标准型退火炉，可与公司其他工艺腔体互联实现薄膜的原位退火，也可以单独使用。还可以选配磁铁模块实现对磁性薄膜的诱导，系统搭配控制软件，运行稳定可靠!

真空退火炉是改善薄膜质量的有效手段，在特殊气体氛围下加热还可以改善薄膜的组分。VF-200是致真设备公司推出的一款标准型退火炉，可与公司其他工艺腔体互联实现薄膜的原位退火，也可以单独使用。还可以选配磁铁模块实现对磁性薄膜的诱导，系统搭配控制软件，运行稳定可靠!

性能参数

晶圆尺寸

1inch-8inch

极限真空

5×10-8mbar

温控

RT-1200℃，精度±1℃

加热方式

SIC辐射加热

气体氛围

可在O2等环境下加热

互联

可与工艺腔体互联实现自动传输

真空系统

机械泵+分子泵

可选

磁铁模块、进样室、气氛退火等